シリコンウェハ表面SiO2 薄膜の分析(FTIR)

シリコンウェハ表面SiO2 薄膜の分析(FTIR)

赤外分光光度計(FTIR)を用いシリコンウェハ上に形成された膜厚の異なる4種類の薄膜(0.4,0.8,1.3,4.2nm)を測定しました。
1250cm-1付近および1065cm-1付近のいずれのピークも,酸化膜が薄くなるに従い低波数側へシフトしています。

SiO2薄膜の透過スペクトル(入射角45°)

ピーク高さを縦軸に,膜厚を横軸にとってプロットを行ったところ,ピーク強度と膜厚には相関が得られていることがわかりました。
 


 

赤外分光光度計

主に有機化合物の構造推定(定性)を行う分析装置です。
赤外線を分子に照射すると,分子を構成している原子間の振動エネルギーに相当する赤外線を吸収します。この吸収度合いを調べることによって化合物の構造推定や定量を行います。
 

 

Top of This Page