シリコンウェハ表面フォトレジスト薄膜の膜厚測定(UV)

シリコンウェハ表面フォトレジスト薄膜の膜厚測定(UV)

物質の膜の厚さを測定しようとする場合,世の中には様々な方法が存在しますが紫外・可視分光光度計を用いれば,非破壊で簡単に測定することができます。

厚さの違うシリコンウェハ上のフォトレジスト膜厚(0.5μm、3.0μm)を測定しました。膜厚が薄いものほど波形の周期が長く,厚いものほど短くなります。

3μmのフォトレジスト膜のスペクトル

0.5μmのフォトレジスト膜のスペクトル


 

紫外・可視分光光度計

各種の膜厚測定を非破壊で簡単に測定することができます。
膜の表面と裏面での反射光が互いに干渉し合ってできる,波打った干渉スペクトルが得られます。
厚さは,一定の波長範囲内におけるスペクトル上の波の数を数えることにより求められます( 膜物質の屈折率が必要です )。
 

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