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ウェハ製造

ウェハ製造は、半導体デバイスの品質を左右する重要な工程です。ウェハには、純度や欠陥はもちろんのこと、厚さの均一性、表面の平坦性や薄片化が求められます。
シリコンウェハを中心にウェハの分析例をご紹介します。

ウェハ製造

  • 反射装置による金属上薄膜の測定
  • 単結晶Si中の格子間酸素、置換型炭素の定量 (FTIR)
  • シリコンウェハの破壊を撮影
  • シリコンウェハの衝撃試験における3D-DIC解析
  • 結晶シリコン太陽電池の各種材料の評価
  • フィルムの膜厚試験 (UV)
  • 多結晶シリコンウェハのバンドギャップ測定 (UV)
  • 半導体光触媒の評価 (UV)
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