反射装置による金属上薄膜の測定

はじめに

シリコンウェハーを中心とした半導体産業は近年においてもその研究意欲は衰えることをしらず，我々の身近なTV，PC等のような様々な応用例があります。この半導体の評価技術に好ましい条件は非接触，非破壊，そして非真空などがありますが，フーリエ変換赤外分光法（FTIR）は光を利用した分析手法であるために，上記の条件を満たした分析法の一つであり，更に測定が非常に簡便であるという長所を持ち併せています。 本稿ではこのFTIRの応用例として，ハードディスク上のフッ素樹脂の定量とシリコンウェハー上のエピタキシャル層の膜厚測定に注目し，FTIRの半導体評価への有効性について述べます。

2005.04.19