EPMA-8050G

電子線マイクロアナライザ(Electron Probe Microanalyzer)

電子線マイクロアナライザ(Electron Probe Microanalyzer) EPMA-8050G

“The Grand EPMA” 誕生

最新鋭のFE電子光学系で究極に進化した
島津EPMAの分析能力


SEM観察条件から1µAオーダーに至るまで,全てのビーム電流条件でかつてない卓越した空間分解能が得られる最新鋭のFE電子光学系を搭載。島津伝統の高性能X線分光器との融合により,その分析能力は究極と言えるまでに進化しました。
まさに “The Grand EPMA” と呼ぶにふさわしい,最高峰のEPMAの誕生です。

超高分解能マッピング

カーボン上のSnボールを倍率3万倍でマッピング分析しました。SE像(左)で直径わずか50nm程度と見られるSnの粒子までもがX線像(右)で明確に確認できます。

SE像

X線像

最新鋭だからできること

■ かつてない卓越した空間分解能

EPMAとして最高レベルの二次電子像最高分解能 3nm(加速電圧30kV)。分析条件でナンバーワンの二次電子像分解能。
(加速電圧10kVにおいて,20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1µA)
 

二次電子像最高分解能3nm

カーボン上の金蒸着粒子の観察例です。最高分解能として3nm (@30kV)を達成しています。比較的大きなビーム電流でもビームが絞れるので,なめらかで高分解能なSEM像が容易に得られます。

二次電子像最高分解能3nm

■ 超高感度分析を可能にする大ビーム電流

最大ビーム電流3.0µA(加速電圧30kV)を実現。
全てのビーム電流範囲で対物絞り交換必要なし。
 

■ 高性能4インチX線分光器を最大5台搭載可能

他の追従を許さないX線取り出し角度52.5度。
高感度と高分解能を両立するローランド円半径4インチ。
同タイプのX線分光器を最大5台搭載可能。
 

■ すべての分析を簡単に分かりやすく操作

全ての操作がマウスひとつで行える先進の操作性。
「分かりやすさ」を追求したユーザインターフェース。
レポート作成まで自動で行う簡単モードを搭載。

超高感度マッピング

ビーム電流1µA,倍率5000倍でステンレスをマッピング分析しました。
(左)Crの濃度がわずかに異なる相の分布を克明にとらえています。 (右)含有量が0.1%に満たないMnの分布を可視化することに成功しました。

(左)Crの濃度がわずかに異なる相の分布を克明にとらえています。

(右)含有量が0.1%に満たないMnの分布を可視化することに成功しました。

微小領域の超高感度分析を可能にする先進技術

微小領域の超高感度分析を可能にする先進技術

1 高輝度ショットキーエミッタ
SEMで一般的に用いられるものよりも先端径の大きい高出力タイプのショットキーエミッタを採用したFE電子銃。高輝度でありながら高感度分析に不可欠な大電流の電子ビームが安定して得られます。

2 EPMA専用電子光学システム
電子光学系は,コンデンサレンズを電子銃側に出来るだけ近づけ,コンデンサレンズではクロスオーバを形成せず,対物絞りを同位置に配置したアイリスレンズでクロスオーバを形成するようにした独自の構成と制御方式です(特許:第4595778号)。シンプルなレンズ構成でありながら,大電流が得られるとともに,全ての電流条件で開き角が最適に設定され,電子ビーム径を最小にすることができます。もちろん対物絞りの交換は不要です。

3 超高真空排気システム
電子銃室,中間室,分析チャンバーの間をそれぞれオリフィスで仕切った2段の差動排気システムです。中間室と分析チャンバーとの間のオリフィスを最小化することで中間室へのガスの流入を抑制し,電子銃室を常に超高真空に保ち,エミッタを安定動作させます。

4 高感度X線分光器
高感度,高分解能を両立する4インチX線分光器を最大5台まで搭載できます。52.5°のX線取り出し角度はX線信号の空間分解能を高めると同時に,試料によるX線の吸収が少ない高感度分析を可能にします。

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