ラインナップ

SUPERSCAN SS-4000のラインナップは次の2つのタイプです。

 LMH  標準サイズの試料チャンバーを備えた高真空タイプです。非導電性材料やビームダメージに弱い材料に対しても、低加速電圧で高品質の像を観察することができる超高分解能SEMです。
 GMU  大きな試料を扱える大型試料チャンバーを持ち、より多くのオプションシステムが搭載可能な超高分解能SEMです。
ガス二次電子検出器(GSD)と最大500 Paの可変圧力(MultiVac)機能を搭載しており、低真空観察でも優れた性能を発揮します。LMHに比べ、より多くの複数のオプション分析機能を搭載可能です。

主な仕様

  LMH GMU
電子源 ショットキー電界放出(FE)
分解能 高真空モード
0.8 nm(30 keV、STEM(オプション)使用)、
0.9 nm(15 keV)、1.3 nm(1 keV)、
1.2 nm( 1 keV BDM)、1.5 nm(0.5 keV)


 
高真空モード
0.8 nm(30 keV、STEM(オプション)使用)、
0.9 nm(15 keV)、1.3 nm(1 keV)、
1.2 nm(1 keV BDM)、1.5 nm(0.5 keV)
低真空モード
1.8 nm(30 keV GSD)
3.0 nm(3 keV GSD)
撮影倍率 2倍 ~ 2,000,000倍
最低・最高倍率は、加速電圧、ワーキングディスタンス(WD)により異なる
加速電圧 0.05 keV ~ 30 keV(入射電圧 < 0.05 keV BDMモード)
照射電流 2 pA ~ 400 nA(連続調整可能)
中間レンズを用いたビーム開き角制御により、全ての照射電流条件でスポットサイズが最適化されるため、対物アパーチャの切り替えが不要
低真空圧設定範囲 7 ~ 500 Pa(MultiVac N2、H2O)
対物レンズ 電磁場重畳対物レンズ
自動機能 ビーム軌道計算・制御、オート・ブライトネス/コントラスト、オートフォーカス、オートスティグマ、オート対物センタリング、オートスティグマ・センタリング
検出器 In-Beamアキシャル検出器(SE/BSE)
In-Beam マルチ検出器(SE/BSE)
In-Chamber E-T 検出器(SE)
In-Chamber BSE 検出器(LE-BSE)
In-Beamアキシャル検出器(SE/BSE)
In-Beam マルチ検出器(SE/BSE)
In-Chamber E-T 検出器(SE)
In-Chamber BSE 検出器(LE-BSE)
ガス二次電子検出器(GSD)
拡張ポート 12*1) 20*1)
試料チャンバー 内径 230 mm W 340 mm x D 315 mm
最大試料寸法*2) 最大径 : 100 mm 径(T軸不使用)
最大試料高さ : 39 mm
65 mm(R軸非搭載時)
最大径 : 180 mm 径(T軸不使用)
最大試料高さ : 92 mm
133 mm(R軸非搭載時)
最大試料重量*2) 500 g
1000 g(RT軸不使用)
1000 g
8000 g(RT軸不使用)
試料ステージ 電動5軸 compucentric式*3)
X軸 80 mm
Y軸 60 mm
Z軸 49 mm
R軸(回転)360°連続
T軸(傾斜)-80°~ +80°
電動5軸 compucentric式*3)
X軸 130 mm
Y軸 130 mm
Z軸 100 mm
R 軸(回転)360°連続
T 軸(傾斜)-70°~ +90°
サスペンション ニューマチック(空圧) アクティブ
その他の標準装備 ビーム減速(BDM)、プラズマクリーナー、コントロールパネル
画像サイズ 最大 16 k  x 16 k pixel
コンピュータ Intel Core i7、主メモリ32GB、 500GB SDD+4TB HDD、Nvidia GTX1660 同等
ディスプレイ 32 型 QHD
OS Windows® 11 Pro(64 ビット版)
観察ソフトウェア
パッケージ
Essence Measurements、Essence Image Processing、Essence Presets、Positioner、
Essence 3D Collision Model、Essence Histogram Display and Adjustment、
Essence SharkSEM Basic、Essence Object Area、Essence Switch-off Timer
対応言語 日本語 / 英語
  • システム構成によっては、拡張ポート数が制限される場合があります。
  • 使用条件により異なります。
  • T軸(傾斜)を変更しても視野を保つことができるよう座標位置を計算して移動する駆動方式です。Eucentric式とは異なり、試料をT軸の回転軸上に配置する必要がありません。

 

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