洗浄

洗浄工程は、ウェハ表面に付着した微細なパーティクル（微粒子）、金属不純物、有機物などを除去し、清浄な表面状態を作り出す極めて重要な工程です。半導体デバイスの微細化が進むにつれ、わずかな汚染でもデバイスの性能や歩留まりに大きな影響を与えるため、洗浄工程の重要性はますます高まっています。 洗浄水などの様々な分析例をご紹介します。