ZSX Primus IV（株式会社リガク製）

上面照射方式

ルーチン分析に安心してお使いいただける上面照射方式を採用しています。粉末試料からの粉が飛散しても光学系への影響はありません。試料保護のためのフィルムも不要です。

定量アプリケーション自動設定機能

標準試料の標準値と試料情報を入力するだけで、分析線・光学系の設定、共存元素補正、重なり補正を自動設定し、初心者でも検量線格納が容易です。

膜厚・付着量分析のための最適測定線検索・分析評価プログラム

一番精度よく分析できる分析線の組合せや、分析線の分析深さ情報・上層による吸収の割合のシミュレーション結果や妨害線の情報を得ることができます。

優れた操作性の「らくらく分析」

日常のルーチン分析に必要な操作を集約した「らくらく分析」により、一連の分析設定をワンタッチで呼び出したり、頻繁に用いるアプリケーションを”お気に入り”へ登録することができます。

高速分析

試料の高速搬送、高速駆動ゴニオメーター、高速データ処理、効率的な各駆動部の制御により、スループットが向上しました。定性分析時間は約40％、定量分析では約20％（当社比）短縮でき、単位時間当たりの試料処理数を増加させることができます。

高精度測定

Ｘ線計数システムにはデジタル・マルチチャンネルアナライザー（D-MCA）を採用。高速デジタル処理により高計数率域までの計数直線性を実現し分析精度が向上しました。最大計数率（計数直線性1％）：SC 1800kcps、F-PC 3000kcps

ヒューマンエラー防止

ソフトウェアへのアクセスレベルをオペレーター毎に設定できます。これにより初心者の操作ミスによるデータベースの変更・削除を防ぐことができます。プログラムメニューの表示・非表示設定がユーザーレベル毎にきめ細かく選択でき、ヒューマンエラーを防止できます。

WDXシステムでのポイント・マッピング分析

高解像度カメラを搭載しており、試料全体画像のうち、指定した部分の拡大画像を鮮明に表示できます。これにより、微細領域でも正確に位置指定が行えます。また、r-θ試料ステージにより、全ての測定位置を同一感度で測定できるため正確な分析ができます。