Siウェハ中の軽元素濃度計算プログラム

フーリエ変換赤外分光光度計

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このプログラムはシリコン結晶中の置換型炭素、格子間酸素およびSiN膜中のN-H、Si-Hの水素濃度を定量するためのものです。
置換型炭素濃度および格子間酸素濃度については、日本電子工業振興協会から発行されているJEITA規格（シリコン結晶中の格子間酸素濃度と置換型酸素濃度の標準測定法）に沿ったプログラムとなっています。測定はすべて透過法で実施し、ブランクとなるSiウェハはお客様で準備していただく必要があります。ブランク試料の詳細については以下をご参照ください。

格子間酸素濃度用ブランク試料の形状および濃度

試料形状はFZ法結晶の両面研磨薄片で、酸素濃度1×1016 atoms/cm3（0.2 ppma）以下の5 Ωcm以上の抵抗率を持つこと。

置換間炭素濃度用ブランク試料の形状および濃度

試料形状は厚さ約2.0 mmの両面研磨薄片で、炭素濃度2×1015 atoms/cm3（0.2 ppma）以下であること。

プログラム起動時と結果表示のイメージ画面（結果表示は置換型炭素濃度計算結果）

プログラム起動時と結果表示のイメージ画面（結果表示は置換型炭素濃度計算結果）

対象試料

Siウェハ

FTIRカスタム製品の
ご紹介
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