露光・現像

露光・現像は、ウェハ上に微細な回路パターンを形成するための重要な工程です。露光と現像の技術が組み合わされることで、微細な回路パターンをウェハ上に形成することが可能になります。
近年では、半導体の微細化に伴い、露光技術ではEUV露光、現像技術では高精度な現像制御技術が開発されています。
有機物の物性、不純物分析を中心に、様々な分析例をご紹介します。