KRATOS ULTRA2 （英国名AXIS Supra⁺） - 特長

光電子捕集効率の高い電子光学系により、格段に優れたラージエリア分析性能を実現しました。ラージエリア測定時の感度とエネルギー分解能の高さは、他に類を見ません。通常のエネルギースキャン測定に加え、128チャンネルディレイライン検出器（DLD）による高速なアンスキャンスナップショットモードを使用すると、1秒以下でスペクトルを測定することが可能です。

• 軽元素の検出が容易
• 微量元素でも高いS/N比
• 高速データ測定
• 2つの測定モード：エネルギースキャンとスナップショット

微小部測定位置は、インプットレンズによって試料上に形成されたバーチャルプローブを使用して定義されます。分析エリアサイズは、静電レンズカラムに組み込まれた自動アパーチャーと自動アイリスによりコントロールされます。微小部測定スペクトルは、モノクロX線源とアクロマティックX線源のいずれでも測定することが可能です。

27 µmエリアサーベイ微小部分析の位置決めに使用したXPSイメージ

スパッタイオン源

KRATOS ULTRA2⁺ は、Minibeam 4 高性能Ar+ 単原子イオン源もしくはMinibeam 6（Ar_n⁺）ガスクラスターイオン源（GCIS）を搭載します。どちらのイオン源もESCApeソフトウェアに完全に統合され、スパッタクリーニングおよびデプスプロファイリングを全自動で行うことが可能です。ガス導入・排気制御システムもソフトウェアから制御されます。
Minibeam 6 はマルチモードイオン源であり、必要に応じてAr_n⁺クラスターモードとAr⁺/He⁺ 単原子イオンモードを切り替えることが可能です。ガスクラスターイオン源は、化学的情報に大きなダメージを与えることなくスパッタリングを行うことができるため、有機物のデプスプロファイリングに新たな可能性を開きました。

今では、有機LED やフレキシブル電子デバイスなどの複合多層物質のデプスプロファイリングが、Ar_n⁺クラスターイオンを用いて広く行われています。
また、Minibeam 6 は20 keV のAr_n⁺クラスターイオンを生成することができるため、酸化チタンなどの無機材料に対しても、与えるダメージを極力抑えながら実用的なスパッタリングレートでのエッチングを可能とします。クラスターイオンデプスプロファイリングが不要な場合は、Minibeam 4 イオン源が搭載されます。
このイオン源は、ビームエネルギーが500 eV から4 keV の間で連続可変であり、低エネルギーでのイオンフラックスが高く、高いスパッタリングレートと深さ分解能を両立します。

* 単原子イオン源とガスクラスターイオン源の2 つの選択肢
* ガス導入および圧力調整は全自動制御
* どちらのイオン源もISS（イオン散乱分光：オプション）モード用He⁺ イオンに対応

XPS 用励起源として、Al/MgアクロマティックX 線源および高エネルギーAg LαモノクロX 線源を追加することが可能です。また、紫外光電子分光（UPS）用のヘリウムUV光源も搭載可能です。
さらに、フィールドエミッション電子銃を追加することで、オージェ電子分光（AES）、スキャニングオージェ電子顕微鏡法（SAM）および2 次電子顕微鏡法（SEM）に対応します。これらのすべてのオプション分光手法は、XPS の性能を損なうことなく追加可能であり、加えて、いずれもXPSと同じ位置で分析を行うた
め、試料の多角的な解析を実現します。

試料前処理および試料表面加工のためのオプションは、Flexi-lockと呼ばれる試料導入室に搭載することが可能です。試料加熱冷却機構、エアセンシティブサンプルトランスポーター、ブロードスポットイオン源、結晶へき開装置、グローブボックスなどを用意しています。さらに、必要に応じて、表面科学実験のための第3のUHVチャンバーを追加することも可能です。このチャンバーには、マニュアルステージや、低エネルギー電子線回折（LEED）、逆光電子分光（IPES）および四重極2次イオン質量分析（SIMS）などのオプション分析手法を搭載することが可能です。