• 120 nm
  • 450 nm

透明導電性膜として知られているITO薄膜は、成膜手法、膜厚、基板温度などの成膜条件により表面形状が異なります。膜厚が120 nm(左)と450 nm(右)のITO薄膜を比較すると、膜厚の増加に伴い個々の結晶粒(グレイン)が大きく成長している様子が良くわかります。また、スパッタリング法に特有のグレイン-サブグレイン構造が明瞭に観察されています。
(データご提供:青山学院大学 理工学部 化学科 重里先生)

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