半導体洗浄水中の微量無機イオンの分析

半導体洗浄水中の微量無機イオンの分析

半導体の製造においては,その部品表面に残存する強酸性イオンが金属腐食などの原因となるために,超純水を用いて洗浄する工程があります。 この洗浄水に含まれるイオンを分析することは品質管理上極めて重要です。
この場合,数十ppt(ppt は1兆分の1)レベルのイオンが検出できる分析法が必要になります。イオンクロマトグラフで半導体洗浄水中の微量イオンの分析を行いました。

半導体洗浄液の分析例

イオンクロマトグラフ

主に無機イオンの定量分析に広く使用されている分離分析機器です。ppbレベルの超高感度分析が可能なサプレッサ方式と多様性に優れるノンサプレッサ方式のイオンクロマトグラフをご用意しています。
 

 

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