
KRATOS ULTRA2 (英国名AXIS Supra+)
- XPSは物質表面約10 nmの分析が可能です。 - XPSにより、表面にnmオーダーの薄膜を形成したサンプルの構造を解析できます。
近年、品質管理や研究開発の面で物質最表面の情報を知りたいというニーズが高まっており、表面分析の重要度は日々増しています。表面分析の手法は多岐に渡り、各々で分析可能な元素や分析深さなどが異なるため、測定対象に応じて適切な手法を使い分ける必要があります。XPS(X線光電子分光法:X-ray Photoelectron Spectroscopy)は固体表面に軟X線を照射したときに放出される光電子のエネルギーを測定する表面分析手法であり、物質表面の元素の定性・定量分析、化学結合状態分析ができます。XPSの分析深さは表面から約10 nmであり、物質最表面の化学状態に関する情報を得ることができます。本報告では、XPSを用いて光学結晶上薄膜の結合状態を解析した事例を述べます。併せて、分析手法によって元素定性、定量の結果にどのような差異が見られるかをご紹介します。
2021.02.08
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