X線回折法による薄膜の測定（その4）

はじめに

近年、薄膜技術の進歩はめざましく、すでに実用材料として種々の方面で利用されております。X線回折法はこれからの薄膜の研究開発を進めるうえで、有用な評価技術です。X線回折法により結晶形、配向性、結晶化度、残留応力、膜厚などの重要な情報が得られます。とくに、最近開発された薄膜ZX線回折法は、従来のΦ-2Φ法に比較して、下地の材料から生じる妨害を少なくして、表面層に対する感度を高める効果がありますので、現在の薄膜開発の要求に適した手法といえます。今回はとくに妨害線の強い鉄板の上に成膜したTiN薄膜の測定例を紹介します。

2006.07.31