電位による描画

シリコン基板上の金蒸着面を試料として、ベクタースキャンにより図１のような軌跡の描画を行いました。 このとき、導電性のカンチレバーを用いて、試料とのあいだに微小電位を与えています。 描画後、AFMとKFMの同時測定を行うと、 AFM像（図2）の形状観察には変化は認められませんが、KFM像（図3）の電位測定では描画の軌跡の電位が周辺より50mV程度低く測定されました。