レーザアブレーション成膜装置/HPV-X2

概要

レーザパルスを標的物質に照射すると，物質表面がはぎ取られ（アブレーション），プルームと呼ばれる発光を伴った粒子が飛び出します。レーザアブレーション成膜装置はこの現象を利用しており，膜を形成したい基板を標的物質と対向して配置し，アブレーションによって発生した粒子を基板上へ堆積して製膜します。画像は左から水平に照射されたレーザパルスによるプルームの発生・消滅過程を観察したものです。 （京都大学・田部研究室ご提供） 撮影速度：1,000万コマ／秒 視野幅：約50 mm