Shim-pack シリーズ

汎用LCカラム Shim-pack VP-ODS

Shim-pack VP-ODS

優れた製造均一性・優れた基本特性

分析法の開発やバリデーションにおいて，カラムの製造均一性に対する期待が高まっています。Shim-pack VP-ODSはそのような期待にお応えするために開発されたカラムです。
シリカ基材の品質を安定化し，オクタデシル基導入とエンドキャッピングに関して再現性の高い表面修飾技術を確立しました。
研究開発部門・品質管理部門の厳しい要求を満足することのできる，標準的ODSカラムとしてお使いいただけます。

優れたロット間の製造均一性

ODSカラムのバラツキの原因は大別して3つあります。ひとつはシリカ基材のバラツキ，もうひとつは表面修飾時のバラツキ，そしてカラム充填のバラツキです。
Shim-pack VP-ODS はこれらのバラツキに関する厳格な管理を行い，所定の規格に合格した製品のみを出荷しています。これにより，メソッド開発から品質管理に至るまで，カラム間の高い製造均一性が得られます。

シリカ基材3ロット間の再現性比較

理論段数とカラム圧力のバランス

理論段数が大きく，圧力の低いカラムほど使いやすいカラムといえます。1MPaあたりの理論段数を比較すると，Shim-pack VP-ODSが優れたカラムであることがわかります。

他社カラムA～Cと同等の理論段数であると仮定した場合，同条件で分析を行った時のカラムにかかる圧力はShim-pack VP-ODSが最も低い事が分かります

1Mpa当りの理論段数を他社カラム3種と比較

優れたピーク形状

金属不純物の少ない基材を使用しています。
配位性化合物のピーク形状が良好です。

エンドキャッピングを徹底しています。
塩基性化合物のピーク形状が良好です。

他のアプリケーションについては，こちらへ。

仕様

Shim-pack VP-ODS

粒子径（μm）

細孔径（nm）

比表面積（m2/g）

410

炭素含有率（%）

耐圧（MPa）

19.6

細孔容積（mL/g）

1.25

エンドキャッピング

有

結合様式

モノメリック

USPカテゴリー

Journal Citation Reports

Shim-pack VP series columns

価格表（島津GLCサイトへ）

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Shim-pack VP-C8/ Phenyl

島津汎用分析カラムShim-pack VPシリーズに，従来のODSの他，オクチル基を結合したShim-packVP-C8，フェニルプロピル基を結合したShim-pack VP-Phenylを揃えました。分離特性が等しい高速用カラムShim-pack XRシリーズと合わせてご使用頂くことで，メソッド開発を高速分析で行い，それを汎用分析へスムーズに移行することが可能となりました。

仕様

品名

粒子径
（μm）

細孔径
(nm)

比表面積
(m²/g)

炭素含有率 (%)

耐圧
(MPa)

Shim-pack VP

410

VP-ODS：20（L1）
VP-C8：12.5（L7）
VP-Phenyl：12.3（L11）

約20

Shim-pack XR

2.2

340

XR-ODS：18（L1）
XR-C8：11（L7）
XR-Phenyl：11（L11）

約35

※炭素含有率の（）内はUSPカテゴリーを示しています

等しい保持挙動のカラムによる高速/汎用分析例（ODS，C8，Phenylの3種類）

以下にShim-pack VPカラムとShim-pack XRカラムの分析例を示します。各分析例とも相対保持時間はほぼ維持した分析が実現できています。メソッド移行ではこの同等性が重要となりますので,Shim-pack VPシリーズとShim-pack XRシリーズはメソッド開発カラムとしても最適な組み合わせのカラムと言えます。