シリコンウェハ薄膜の断面観察
シリコンウェハ薄膜の断面観察
薄膜の断面を観察することは膜厚,ベースとなる基板との界面の状態,層内の粒状性や異種薄膜との層間接着や拡散性などを知る上で重要です。
走査プローブ顕微鏡でSi酸化膜の断面を観察しました。膜厚測定をしたところ477nmでした。酸化膜中の粒状性や基板との界面の様子が観察されています。

Si酸化膜の断面
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薄膜の断面を観察することは膜厚,ベースとなる基板との界面の状態,層内の粒状性や異種薄膜との層間接着や拡散性などを知る上で重要です。
走査プローブ顕微鏡でSi酸化膜の断面を観察しました。膜厚測定をしたところ477nmでした。酸化膜中の粒状性や基板との界面の様子が観察されています。
Si酸化膜の断面
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